ПРИМЕНЕНИЕ ВИХРЕВЫХ ГЕНЕРАТОРОВ ПЕНЫ В АВТОМАТИЧЕСКИХ ЛИНИЯХ ФОТОЛИТОГРАФИИ С СИСТЕМАМИ УПРАВЛЕНИЯ И КОНТРОЛЯ, ВКЛЮЧАЮЩИМИ ЭЛЕМЕНТЫ ИСКУССТВЕННОГО ИНТЕЛЛЕКТА И ИСКУССТВЕННЫЕ НЕЙРОННЫЕ СЕТИ

Попов В.В.

Email: Popov675@scientifictext.ru

Попов Виктор Владимирович - специалист по данным, ООО Opex Analytics, г. Чикаго, Соединенные Штаты Америки, магистр компьютерных наук, Корнелльский университет, г. Нью Йорк, Соединенные Штаты Америки, бакалавр мехатроники и робототехники, Московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана, г. Москва

Аннотация: в данной работе рассмотрены вихревые генераторы пены, которые предлагается использовать в автоматических линиях фотолитографии для подготовки поверхности заготовок перед нанесением фоторезиста. Такой подход имеет сразу несколько преимуществ, наиболее важными из которых являются высокое качество очищения обрабатываемой поверхности, а также компактность вихревых генераторов пены, которая обеспечивает возможность включения в состав линии дополнительных инструментов, расширяющих ее функциональность. В статье подробно описывается принцип работы аэродинамических генераторов пены, их структурный состав, а также непосредственно способ аэродинамического генерирования пены. Рассматривается рабочая позиция линии фотолитографии на полупроводниковых пластинах, а также варианты интеграции в нее описываемого генератора пены. Особое внимание уделяется аргументации целесообразности применения именно этого устройства в автоматических линиях фотолитографии. Приводятся отличительные признаки вихревого генератора пены по сравнению с его аналогами в рамках поставленной задачи. Данное устройство способно поддерживать управление с помощью алгоритмов искусственного интеллекта и искусственных нейронных сетей. Это позволяет отрабатывать более сложные режимы управления по сравению с классическими схемами контроля подобными установками, а также повысить точность осуществляемых операций.

Ключевые слова: генератор пены, робототехника, линия фотолитографии, искусственный интеллект.

APPLICATION OF VORTICAL FOAM GENERATORS IN AUTOMATIC PHOTOLITHOGRAPHY LINES WITH CONTROL SYSTEMS INCLUDING ELEMENTS OF ARTIFICIAL INTELLIGENCE AND ARTIFICIAL NEURAL NETWORKS

Popov V.V.

Popov Victor Vladimirovich - data Scientist, LLC OPEX ANALYTICS, CHICAGO, UNITED STATES OF AMERICA, Master of Engineering in Computer Science, CORNELL UNIVERSITY, NEW YORK, UNITED STATES OF AMERICA, Bachelor’s Degree in Mechatronics and Robotics, BAUMAN MOSCOW STATE TECHNICAL UNIVERSITY, MOSCOW

Abstract: in this article vortical foam generators are considered, which usage is suggested in automatic photolithography lines for surface preparation of the raw workpieces before photoresist coating. This approach has several advantages. The most important among them are high quality of processing surface cleaning, and also compactness of the vortical foam generators that allows to include in the assembly line additional instruments that will increase its functionality. In this article author describes in details operation principles of aerodynamic foam generators as well as their structural components and method of aerodynamic foam generation. Working position of the semiconductor-based photolithography lines is considered and integration option of discussed foam generator in it. Special attention is paid to argumentation of expediency of applying this device in automatic photolithography lines. Author provides distinctive features of the vortical foam generator in comparison to its analogues given the specified problem. This device can be controlled by algorithms of artificial intelligence and artificial neural networks. This allows to perform more complex operation modes in comparison to classic systems used to control such equipment and to improve precision of the performed operations.

Keywords: foam generator, robotics, photolithography line, artificial intelligence.

Список литературы / References

Yamazaki Shunpei et al. “Semiconductor device and manufacturing method thereof”. U.S. Patent 20150357352, issued December 10, 2015.
Yamazaki Shunpei et al. “Semiconductor device and manufacturing method thereof”. U.S. Patent 20160358941, issued December 8, 2016.
Singh Mandeep. “Euv mask for use during euv photolithography processes”. U.S. Patent 20150140477, issued May 21, 2015.
Popov Victor. Transformation of Aerodynamic Capture Principle to Dynamic Activation of Fuel Mixture principle, Program and Associated Method of Preliminary Tests, "Intellectual Archive" journal, vol.8, #3, 2019. DOI: 10.32370/IAJ.2157.
Swanson Kurt C. et al. “Gold electroplating solution and method”. U.S. Patent 20160208401, issued July 21, 2016.
Koyama Jun. “Semiconductor device and manufacturing method thereof“. U.S. Patent 20150064841, issued March 5, 2015.
Liao Chia-Feng et al. “Photolithography tool and method thereof”. U.S. Patent 20170123328, issued May 4, 2017.
Clevenger Lawrence A. et al. “Method for air gap interconnect integration using photo-patternable low k material”, U.S. Patent 20120280398, issued November 8, 2012.
Kanungo Mandakini et al. “Apparatus and methods for ink-based digital printing using imaging plate having regular textured surface for reduced pullback”.Clevenger Lawrence A. et al. “Structures and methods for air gap integration”. U.S. Patent 20110260326, issued October 27, 2011.
Wang Hsien-Cheng et al. “Method and apparatus for cleaning a substrate”. U.S. Patent 20080156346, issued July 3, 2008.

Ссылка для цитирования данной статьи

Тип лицензии на данную статью – CC BY 4.0. Это значит, что Вы можете свободно цитировать данную статью на любом носителе и в любом формате при указании авторства.

Электронная версия. Попов В.В. ПРИМЕНЕНИЕ ВИХРЕВЫХ ГЕНЕРАТОРОВ ПЕНЫ В АВТОМАТИЧЕСКИХ ЛИНИЯХ ФОТОЛИТОГРАФИИ С СИСТЕМАМИ УПРАВЛЕНИЯ И КОНТРОЛЯ, ВКЛЮЧАЮЩИМИ ЭЛЕМЕНТЫ ИСКУССТВЕННОГО ИНТЕЛЛЕКТА И ИСКУССТВЕННЫЕ НЕЙРОННЫЕ СЕТИ // Вестник науки и образования №21(75), 2019. [Электронныйресурс].URL: http://scientificjournal.ru/images/PDF/2019/VNO-21-75/primenenie-vikhrevykh.pdf (Дата обращения:ХХ.ХХ.201Х).

Печатная версия. Попов В.В. ПРИМЕНЕНИЕ ВИХРЕВЫХ ГЕНЕРАТОРОВ ПЕНЫ В АВТОМАТИЧЕСКИХ ЛИНИЯХ ФОТОЛИТОГРАФИИ С СИСТЕМАМИ УПРАВЛЕНИЯ И КОНТРОЛЯ, ВКЛЮЧАЮЩИМИ ЭЛЕМЕНТЫ ИСКУССТВЕННОГО ИНТЕЛЛЕКТА И ИСКУССТВЕННЫЕ НЕЙРОННЫЕ СЕТИ// Вестник науки и образования № 21(75), 2019, C. {см. журнал}.