СИСТЕМЫ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ

Богданов Д.С.

Email: Bogdanov664@scientifictext.ru

Богданов Даниил Сергеевич - студент магистратуры, Институт микроприборов и систем управления, Национальный исследовательский университет Московский институт электронной техники, г. Зеленоград

Аннотация: в статье рассмотрено современное состояние магнетронных распылительных систем. Изучены современные направления магнетронного напыления, определяющие их свойства и условия применения. Подробно описана схема магнетронной системы, в которой описываются её элементы. Рассмотрены преимущества и недостатки магнетронных установок с магнетронным распылением. Сделан вывод о перспективах использования магнетронных систем распыления для нанесения тонкопленочного покрытия на обрабатываемые структуры в современном мире.

Ключевые слова: магнетронные устройства, магнитное поле, электроны, ионы, поверхность мишени.

MAGNETRON DUSTING SYSTEMS

Bogdanov D.S.

Bogdanov Daniil Sergeevich - Graduate Student, INSTITUTE OF MICRO-INSTRUMENTS AND CONTROL SYSTEMS, NATIONAL RESEARCH UNIVERSITY MOSCOW INSTITUTE OF ELECTRONIC TECHNOLOGY, ZELENOGRAD

Abstract: the article discusses the current state of magnetron sputtering systems. Modern directions of magnetron sputtering, which determine their properties and conditions of use, are studied. The scheme of the magnetron system, in which its elements are described, is described in detail. The advantages and disadvantages of magnetron installations with magnetron sputtering are considered. The conclusion is made about the prospects of using magnetron sputtering systems for applying a thin-film coating on the treated structures in the modern world.

Keywords: magnetron devices, magnetic field, electrons, ions, target surface.

Список литературы / References

Данилин Б.С., Сырчин В.К.Магнетронные распылительные системы // М.: Радио и связь, 1982. С. 18.
Кузьмичёв А.И.Магнетронные распылительные системы // Киев: «Аверс», 2008. С. 141.
Ивановский Г. Ф., Петров В. И.Ионно-плазменная обработка материалов // М.: Радио и связь, 1986. С. 40.
Данилин Б.С.Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок // М.: Энергоатомиздат, 1989. С. 328.
Плазменные ускорители / Под общей редакцией Л.А. Арцимовича // М.: Машиностроение, 1973. С. 26.

Ссылка для цитирования данной статьи

Тип лицензии на данную статью – CC BY 4.0. Это значит, что Вы можете свободно цитировать данную статью на любом носителе и в любом формате при указании авторства.

Электронная версия. Богданов Д.С. СИСТЕМЫ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ // Вестник науки и образования №10 (64), 2019. [Электронныйресурс].URL: http://scientificjournal.ru/images/PDF/2019/VNO-64/sistemy-magnetronnogo-napyleniya.pdf (Дата обращения:ХХ.ХХ.201Х).

Печатная версия. Богданов Д.С. СИСТЕМЫ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ // Вестник науки и образования № 10(64), 2019, C. {см. журнал}.